是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出将借，所HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器向瓶。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻讽椿，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性脱每，而且對(duì)表面無污染害唧，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性忽孽，在被蝕刻物表面不留任何殘留物绑改，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。用作高能燃料兄一。

要有兩條路線,一是合成法:將氟化氫銨在鎳制反應(yīng)器中加熱,氟氣厘线、氮?dú)夂桶蓖ㄟ^分布器進(jìn)入反應(yīng)器直接氟化反應(yīng)。二是電解法:在一定溫度下,電解熔融的氟化氫銨,電解過程中陽極產(chǎn)生三氟化氮,陰極產(chǎn)生氫氣出革。我國三氟化氮生產(chǎn)廠家的生產(chǎn)方法為上述兩種方法造壮。

上海尚瀾新能源科技有限公司 
ShangHai Shanglan New Energy Technology Co.,Ltd
從事核磁共振加液氦、氦氣管車分裝骂束、集裝格氦氣耳璧、鋼瓶氦氣、漂浮氦氣等服務(wù)展箱；環(huán)氧乙烷分裝旨枯、環(huán)氧乙烷各種配比滅菌氣業(yè)務(wù)、環(huán)氧乙烷尾氣處理等業(yè)務(wù)混驰；氘氣攀隔、氙氣、電子行業(yè)用氣诱紫；液態(tài)及鋼瓶氧氣二焰、氮?dú)狻鍤獬涸健⒍趸嫉雀呒儦怏w服務(wù)谣旨；實(shí)驗(yàn)室氣體管道設(shè)計(jì)以及氣瓶檢驗(yàn)服務(wù)等。 
聯(lián)系人：劉海龍 
手機(jī)號(hào)： 13194677939   
微信號(hào)扣扣號(hào)：178069904 
郵箱：shineliu@shanglangas.com
為您提供誠摯的氣體服務(wù)晨瀑。